目前只有乾式v光刻机，浸润式技术和工程难题大概攻克了一半，至於ev光刻机，极紫外光的光源还是理论阶段……」
晶片的管制，除了军工类晶片，其余的晶片只要你愿意买，国外都愿意卖。
毕竟这是一门超级赚钱的生意，而且买的多了，造的就少了，其他国家巴不得你买一辈子。
真正麻烦的是晶片制程，核心的光刻机，目前国内只有国外九十年代乾式v光刻机的水平
至於v乾式和浸润式，一个是直接进行光刻曝光，中间除了氮气没有任何介质。
一个是增加一层去离子水作为介质，藉助水的折射率把193nm纳米的深紫外光，等效缩短到132nm，从而提升光刻的精度和性能，藉助多重曝光技术，可以完成7nm制程晶片的生产。
按照前世的进度，第一台国产浸润式v光刻机，还要等到23年底完成交付，25年才完成量产验证……
这辈子因为林东的介入，兴东公司凭藉前面几年ai晶片垄断的优势进行市场投喂，浸润式v光刻机提前进行攻克，但也要等到19年才能完成交付。
至於生产7nm以下制程的ev光刻机，目前还在理论探索，连光源如何生产都找不到方法……